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在使用光化學(xué)反應(yīng)儀裝置時(shí)該注意的事項(xiàng)

更新時(shí)間:2022-11-25      點(diǎn)擊次數(shù):1103

光化學(xué)反應(yīng)儀的損壞,常常伴隨著很多原因,其都有哪些因素,基本有一下幾點(diǎn)原因:
 

  1)靜電穿刺
 

  光化學(xué)反應(yīng)儀內(nèi)攪拌帶有懸浮物的液體,懸浮物與反應(yīng)劇烈的磨擦,還懸浮物自身也發(fā)作磨擦,多么就發(fā)作很多的靜電荷,高的靜電荷對(duì)反應(yīng)發(fā)作劇烈的穿刺效果,然后招致反應(yīng)點(diǎn)蝕,因此攪拌轉(zhuǎn)速不宜太快。
 

  2)機(jī)械損壞
 

  光化學(xué)反應(yīng)儀抗沖擊力非常差,任何金屬、硬物對(duì)其停止撞擊均會(huì)招致反應(yīng)破損。因此光化學(xué)反應(yīng)儀運(yùn)用進(jìn)程中謹(jǐn)防任何金屬、硬物失落進(jìn)釜內(nèi),如遇堵料,必需用塑料棒疏浚,檢修時(shí)蓋好鍋蓋,謹(jǐn)防焊渣凝結(jié)瓷面呈現(xiàn)小坑或爆瓷。
 

  3)析氫腐蝕
 

  光化學(xué)反應(yīng)儀的夾套在運(yùn)用一段時(shí)間后會(huì)結(jié)垢和生銹,假設(shè)運(yùn)用酸性除垢劑肅清污垢或夾套中的冷卻液偏酸性,都邑招致金屬發(fā)作析氫腐蝕 (Fe+2HCI=FeC12+H2O一部分H原子分散到金屬內(nèi)空穴,連系成}b,這些H:由于反應(yīng)的致密性而不克不及再向外分散,因此當(dāng)Hz聚積到必然的程度,構(gòu)成定的動(dòng)力時(shí),反應(yīng)就會(huì)發(fā)作分裂。
 

  4)加工應(yīng)力損壞
 

  在釜體加工進(jìn)程中,由于卷筒、沖壓、焊接發(fā)作很多的內(nèi)應(yīng)力,這些應(yīng)力在反應(yīng)前應(yīng)*底消弭,如消弭不徹*會(huì)招致反應(yīng)爆瓷。這種損壞常常發(fā)作在投入運(yùn)用后的頭三個(gè)月。所以對(duì)胚體停止熱處置或時(shí)效處置能防止爆瓷。
 

  光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測(cè)定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。


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